digiline加速器

今天给大家分享digiline加速器，其中也会对drl加速器的内容是什么进行解释。

简述信息一览：

• 1、真空技术是怎么助力EUV(极紫外)光刻技术的?

真空技术是怎么助力EUV(极紫外)光刻技术的?

1、真空需求 在 EUV 光源腔中，需要用大氢气流来保护 EUV 收集镜避免产生锡沉积。为此可使用具有高氢气抽吸能力的初级干式泵维持所需的压力水平。EUV 光线通过扫描室传输到晶圆，此过程依靠涡轮泵来保持极低的工作压力。

2、EUV（极紫外）光刻机使用的15纳米光源是通过一种称为极紫外辐射（EUV radiation）的技术来实现的。EUV光源的产生涉及到多个复杂的步骤。首先，EUV光源使用的是一种称为锡蒸气光源（tin vapor source）的装置。

3、EUV光刻***用波长为10-14纳米的极紫外光作为光源，可使曝光波长一下子降到15nm，它能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸。光刻技术是现代集成电路设计上一个最大的瓶颈。

4、EUV光刻机的原理是接近或接触光刻，通过无限接近，将图案***到掩模上。直写光刻是将光束聚焦到一个点上，通过移动工作台或透镜扫描实现任意图形处理。投影光刻是集成电路的主流光刻技术，具有效率高、无损伤等优点。

关于digiline加速器，以及drl加速器的相关信息分享结束，感谢你的耐心阅读，希望对你有所帮助。